新手学版图--几种电阻的画法
刚好Module 部门要画test key 测试新制程对器件的影响,其中就有一部分是画不同类型的电阻。这些电阻有:poly电阻,nwell电阻,pplus电阻 ,nplus电阻。
上图即为这几种电阻的画法,除poly 电阻外,其他三种电阻的画法是值得推敲的。电阻三端分别定义为force ,sense 和sub。我们来分析这三种电阻。
nwell 电阻:
问题1:为什么force ,sense 端要加thin oxide 和nplus?
问题2:为什么要用nplus 而不用pplus?
Pplus 电阻:
问题1:为什么要画在nwell 中?
问题2:为什么 sub 要接高电位?
问题3:为什么电阻中间要用thin oxide 连接?
Nplus 电阻:
问题1:可不可以画在nwell 中?
其实以上问题的重点1是要理解thin oxide 的作用,以及nwell , p+/N+ plus 在制造过程中所处的步骤。thin oxide 可以理解为去除FOX。nwell 在制造的前端就形成了,FOX不会对此造成影响。而P+/N+ plus 会受FOX的影响,如果FOX阻挡的话,wafer 上就不会形成相应的P型 或N型。重点2即是否会出现不正确的导通。
回答完这些问题之后,我们可以联想到加guard ring时的一些情况。就p-sub /nwell CMOS 版图而言,少数载流子guard ring 为nwell + nplus + thin oxide +VDD, 多数载流子guard ring 为 pplus + thin oxide + VSS。讨论当两种guard ring thin oxide 不连续时的不同影响。
显然在thin oxide 断开的地方FOX 阻挡了n+/p+的形成,对于nwell guard ring在断开的地方形成nwell 电阻,但对于以p型为衬底的地方而言这里就完全断开了。由此可见,在加guard ring 的时候应保持thin oxide 连续性。
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