专利名称：一种对基体表面进行超疏水改性处理实现自清洁的
方法
专利类型：发明专利
发明人：向军辉,邢丽,梁小红,宋波,陈世伟申请号：CN200910241689.6申请日：20091202公开号：CN102086375A公开日：20110608
摘要：一种对基体表面进行超疏水改性处理实现自清洁的方法：1)将无机基体清洗，烘干，放至室温；2)将步骤1处理的无机基体紫外线照射；3)在无机基体上制备超疏水涂层，制得具有超疏水性能的自清洁表面。基体为聚合物基体时，先在该聚合物基体上制备硅烷缓冲层，然后操作上述步骤2和步骤3。三蒸水在本发明制备的基体表面的接触角可达到150°，此超疏水涂层可有效地防止杂质污染，实现自清洁。超疏水涂层具有良好的稳定性。
申请人：中国科学院研究生院
地址：100049 北京市石景山区玉泉路19号(甲)
国籍：CN
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：周长兴
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