专利名称：光盘用原盘的制造方法和光盘的制造方法专利类型：发明专利发明人：河内山彰,荒谷胜久申请号：CN03801799.7申请日：20030925公开号：CN1610942A公开日：20050427
摘要：一种光盘用原盘的制造方法和一种光盘的制造方法，该方法通过使用现有曝光系统，能够实现光盘的较高存储容量。制造光盘的方法的特征在于：使用形成有特定非均匀图案的原盘，所述图案是通过下列步骤形成的：在基片上形成抗蚀层，该抗蚀层由包含诸如W和Mo的过渡金属的不完全氧化物的抗蚀材料组成，不完全氧化物具有小于根据能够为过渡金属所拥有的化合价的理论配比成分的氧含量的氧含量，然后根据记录信号图案，使用激光束选择性曝光和显影抗蚀层，然后将非均匀图案传递到光盘上。
申请人：索尼株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
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