专利名称：镁合金涂层表面负载TiO光催化薄膜的制备方法专利类型：发明专利发明人：邵忠财,姜海涛申请号：CN201010547772.9申请日：20101118公开号：CN102465295A公开日：20120523
摘要：本发明公开了一种镁合金涂层表面负载TiO光催化薄膜的制备方法。将镁合金基体材料经预处理后置于配置好的化学镀液中进行化学镀镍沉积反应，或将预处理过的镁合金先在微弧氧化电解液中进行微弧氧化处理再化学镀镍。用这两种方法得到的镀层分别在电解液中进行阴极电沉积反应，再将得到的膜层烧结、取出冷却即可得到镁基负载TiO薄膜。本发明选用光催化降解亚甲基蓝溶液对TiO薄膜活性进行评价。采用本发明方法在镁合金涂层表面负载TiO薄膜，比直接在镁合金基体上负载TiO膜层结构更致密，光催化性能更好，并且有效地提高了镁合金基体的耐蚀性能，保证在长时间光催化处理过程中基体损失较小。
申请人：沈阳理工大学
地址：110168 辽宁省沈阳市浑南新区南屏中路6号
国籍：CN
代理机构：沈阳利泰专利商标代理有限公司
代理人：李枢
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