专利名称：保护用于固定光学元件的粘合剂不受紫外光影响的
方法
专利类型：发明专利
发明人：马修·利普森,罗纳德·A·维尔科娄申请号：CN03159459.X申请日：20030925公开号：CN1497287A公开日：20040519
摘要：提供一种用于减少通过光学元件发射的散射光，保护用于将光学元件固定在适当位置的粘合剂不受光致降质的影响的方法。在一个实施例中，该方法包括将一薄的有机氧金属化合物涂层涂敷到光学元件将要施加粘合剂的区域，并将该有机氧金属化合物暴露于紫外光。暴露于紫外光，可将该有机氧金属化合物转变成其相应的金属氧化物，以形成光学惰性的光吸收涂层，保护用于将光学元件固定在适当位置的粘合剂不受光致降质的影响。
申请人：ASML控股股份有限公司
地址：荷兰费尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：李德山
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