专利名称：干刻蚀电极及刻蚀机专利类型：发明专利发明人：庄荀凯,苏彦荧申请号：CN201610883714.0申请日：20161010公开号：CN106298424A公开日：20170104
摘要：本发明公布了一种包括相对放置的上部电极与下部电极，所述下部电极包括电极本体、电极凸台及遮蔽片，所述电极本体包括面对所述上部电极的第一表面，所述电极凸台突设于所述第一表面，所述遮蔽片设于所述第一表面且包围所述电极凸台，所述遮蔽片与所述电极凸台之间设有间隙，所述第一表面上设有沟槽，所述沟槽与所述电极凸台邻接，所述沟槽内填充第一隔离介质，所述间隙在所述第一表面上的正投影落入所述第一隔离介质范围内，所述第一隔离介质用于隔离等离子体与所述电极本体。杜绝了上部电极与下部电极之间异常放电或产生直流电压的现象发生，防止刻蚀机在长期使用过程中的损坏，延长设备寿命。
申请人：武汉华星光电技术有限公司
地址：430070 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
国籍：CN
代理机构：广州三环专利代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容